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    鍍層檢測(cè)儀器 電鍍膜厚儀
    簡(jiǎn)要描述:

    鍍層檢測(cè)儀器 電鍍膜厚儀: Thick 8000 鍍層測(cè)厚儀是專門針對(duì)鍍層厚度測(cè)量而精心設(shè)計(jì)的一款新型儀器。主要應(yīng)用于:金屬鍍層的厚度測(cè)量、電鍍液和鍍層含量的測(cè)定;黃金、鉑、銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè)。

    • 產(chǎn)品型號(hào):Thick8000
    • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    • 更新時(shí)間:2025-08-26
    • 訪  問(wèn)  量:1368
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    聯(lián)系電話:

    產(chǎn)品詳情
    • 企業(yè)類型:制造商
    • 新舊程度:
    • 原產(chǎn)地:江蘇昆山
    • 環(huán)境溫度:15℃-30℃
    • 管流:50μA-1000μA
    • 儀器重量:75KG
    • 元素分析:硫(S)到鈾(U)
    • 精度:0.005mm

    X射線熒光光譜儀工作原理介紹
    用X射線照射試樣時(shí),試樣可以被激發(fā)出各種波長(zhǎng)的熒光X射線,需要把混合的X射線按波長(zhǎng)(或能量)分開(kāi),分別測(cè)量不同波長(zhǎng)(或能量)的X射線的強(qiáng)度,以進(jìn)行定性和定量分析,為此使用的儀器叫X射線熒光光譜儀。由于X光具有一定波長(zhǎng),同時(shí)又有一定能量,因此,X射線熒光光譜儀有兩種基本類型:波長(zhǎng)色散型和能量色散型。下是這兩類儀器的原理圖。
      

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    Thick 8000 鍍層測(cè)厚儀是專門針對(duì)鍍層厚度測(cè)量而精心設(shè)計(jì)的一款新型高端儀器。主要應(yīng)用于:金屬鍍層的厚度測(cè)量、電鍍液和鍍層含量的測(cè)定;黃金、鉑、銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè)。

    Thick 8000 鍍層測(cè)厚儀

     

    1、鍍層檢測(cè)儀器 電鍍膜厚儀儀器概述

        Thick 8000 鍍層測(cè)厚儀是專門針對(duì)鍍層厚度測(cè)量而精心設(shè)計(jì)的一款新型高端儀器。主要應(yīng)用于:金屬鍍層的厚度測(cè)量、電鍍液和鍍層含量的測(cè)定;黃金、鉑、銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè)。

    2、鍍層檢測(cè)儀器 電鍍膜厚儀性能優(yōu)勢(shì)

    精密的三維移動(dòng)平臺(tái)
    的樣品觀測(cè)系統(tǒng)
    *的圖像識(shí)別 
    輕松實(shí)現(xiàn)深槽樣品的檢測(cè)
    四種微孔聚焦準(zhǔn)直器,自動(dòng)切換
    雙重保護(hù)措施,實(shí)現(xiàn)無(wú)縫防撞
    采用大面積高分辨率探測(cè)器,有效降低檢出限,提高測(cè)試精度
    全自動(dòng)智能控制方式,一鍵式操作!
    開(kāi)機(jī)自動(dòng)退出自檢、復(fù)位 
    開(kāi)蓋自動(dòng)退出樣品臺(tái),升起Z軸測(cè)試平臺(tái),方便放樣 
    關(guān)蓋推進(jìn)樣品臺(tái),下降Z軸測(cè)試平臺(tái)并自動(dòng)完成對(duì)焦 
    直接點(diǎn)擊全景或局部景圖像選取測(cè)試點(diǎn) 
    點(diǎn)擊軟件界面測(cè)試按鈕,自動(dòng)完成測(cè)試并顯示測(cè)試結(jié)果

    技術(shù)指標(biāo)

    分析元素范圍:從硫(S)到鈾(U) 
    同時(shí)檢測(cè)元素:最多24個(gè)元素,多達(dá)五層鍍層
    檢出限:可達(dá)2ppm,薄可測(cè)試0.005μm
    分析含量:一般為2ppm到99.9% 
    鍍層厚度:一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)重復(fù)性:可達(dá)0.1%
    穩(wěn)定性:可達(dá)0.1%
    SDD探測(cè)器:分辨率低至135eV
    采用*的微孔準(zhǔn)直技術(shù),最小孔徑達(dá)0.1mm,最小光斑達(dá)0.1mm
    樣品觀察:配備全景和局部?jī)蓚€(gè)工業(yè)高清攝像頭
    準(zhǔn)直器:0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與 
    Ф0.3mm四種準(zhǔn)直器組合

    精密的三維移動(dòng)平臺(tái)
    的樣品觀測(cè)系統(tǒng)
    技術(shù)指標(biāo)

    分析元素范圍:從硫(S)到鈾(U) 
    同時(shí)檢測(cè)元素:最多24個(gè)元素,多達(dá)五層鍍層
    檢出限:可達(dá)2ppm,薄可測(cè)試0.005μm
    分析含量:一般為2ppm到99.9% 
    鍍層厚度:一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)重復(fù)性:可達(dá)0.1%
    穩(wěn)定性:可達(dá)0.1%
    SDD探測(cè)器:分辨率低至135eV
    采用*的微孔準(zhǔn)直技術(shù),最小孔徑達(dá)0.1mm,最小光斑達(dá)0.1mm
    樣品觀察:配備全景和局部?jī)蓚€(gè)工業(yè)高清攝像頭
    準(zhǔn)直器:0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與 
    Ф0.3mm四種準(zhǔn)直器組合
    儀器尺寸:690(W)x 575(D)x 660(H)mm
    樣品室尺寸:520(W)x 395(D)x150(H)mm
    樣品臺(tái)尺寸:393(W)x 258 (D)mm

     

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